首页
联系我们
供应商协同
English
关于SMEE
公司简介
发展历程
知识产权
质量体系
合作理念
产品与应用
光刻设备
SSX600系列光刻机
SSB500系列步进光刻机
SSB300系列步进光刻机
SSB200小Mask系列曝光机
SSB200大Mask系列曝光机
集成电路制程设备
激光退火设备
晶圆键合设备
平板显示制程设备
光配向设备
长/短寸量测设备
精密金属掩模张网设备
精密金属掩模量测设备
光学量/检测设备
SOI500系列全自动光学缺陷检测设备
SOI600系列半自动光学缺陷检测设备
SOI800系列全自动光学缺陷检测设备
SOL500系列全自动线宽套刻量测设备
SHM800一体化散射套刻量测设备
服务支持
服务体系
客户培训
新闻中心
公司动态
加入我们
认识SMEE
人才培养
社会招聘
校园招聘
首页
新闻中心
公司动态
公司动态
我司专利荣获“第十四届中国专利优秀奖”
近日,我司发明专利——“光刻机成像光学系统像差现场测量方法”经中国专利奖评审委员会评审、国家知识产权局和世界知识产权组织审核,荣获“第十四届中国专利优秀奖”。
返回列表>>
小明明看看永久免费加密通道
秘密入口正确加载3秒
链接
55thz桃花
精品亚洲永久免费精品91香
链接
链接